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精密热风循环烘箱的规范使用方法分享
20261-23
精密热风循环烘箱的规范使用方法分享

精密热风循环烘箱广泛应用于实验室、制药、电子、材料及食品等行业，用于干燥、固化、老化或灭菌等关键工艺。其依赖强制热风循环与高精度温控实现±0.5℃以内的温度均匀性，若操作不当，不仅影响实验结果，还可能引发样品碳化、设备过热甚至火灾风险。掌握精密热风循环烘箱规范使用方法，是保障温准、风匀、样安、机稳的核心前提。一、使用前准备放置环境：置于水平、通风、远离易燃物的区域，背部预留≥30cm...

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    HMDS六甲基二硅胺烷成底膜的重要性半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶...

    2022-04-09

  • 超低温试验箱的容积应该如何正确选择
    超低温试验箱是用来测试电工、电子以及其他产品材料在高低温或者是恒定试验的温度环境中其变化后的性能参数，它的低温范围可达0°到-80°，是航空、汽车、家电、科研等领域测试设备，用于测试和确定电工、电子及其他产品及材料进行高温、低温、或恒定试验...

    2022-03-24

  • 精密烤胶机，高精度烘胶台功能剖析
    精密烤胶机，高精度烘胶台研制背景：光刻工艺及其相关技术是微电子机械系统(MEMS)加工工艺的重要组成部分.均胶和烘干是光刻工艺中*的一道工序,为增加胶层与硅片表面粘附能力,提高在接触式曝光中胶层与掩模版接触时的耐磨性能及稳定胶层的感光灵敏度...

    2022-03-18

  • 芯片真空储存柜，半导体真空氮气柜
    芯片真空储存柜，半导体真空氮气柜真空存储柜适用于各类化工原料、贵重金属、金属粉末等各种固体、粉状、糊状、液体，电子产品（半导体、电路板、电子成品、芯片、电池板、电池片、电子元器件、高级金属制品、厌氧产品、易氧化产品等）及机金属加工件与各类不...

    2022-03-09

  • 详细盘点HMDS镀膜机的使用注意事项
    HMDS镀膜机通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS镀膜机的使用注意事项：1、定...

    2022-01-20

  • 智能型无尘无氧烘箱（厌氧洁净烘箱）功能解析
    智能型无尘无氧烘箱（厌氧洁净烘箱）主要应用范围：应用于精密电子元件、PI、BCB胶高温固化烘烤、银胶固化、光刻胶固化、电子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、无尘烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、晶圆、LED、PCB板、ITO玻璃等精密电子、太阳...

    2022-01-05

  • 橡胶低温脆性试验机的技术参数和结构原理
    橡胶低温脆性试验机是测定材料在规定条件下试样受冲击出现破坏时的最高温度，即为脆性温度，可以对塑料及其他弹性材料在低温条件下的使用性能作比较性鉴定。可以测定不同橡胶材料或不同的硫化橡胶的脆性温度和低温性能的优劣。因此无论在科学研究材料及其制品...

    2021-12-24

  • HAST高速老化寿命试验箱，半导体高加速温湿度试验机使用规范
    大多数半导体器件的寿命在正常使用下可超过很多年。但我们不能等到若干年后再研究器件；我们必须增加施加的应力。施加的应力可增强或加快潜在的故障机制，帮助找出根本原因，并帮助TI采取措施防止故障模式。在半导体器件中，常见的一些加速因子为温度、湿度...

    2021-12-17

  • 无尘无氧化烤箱的技术参数和配置是什么
    无尘无氧化烤箱用于PI、BCB胶高温固化烘烤。整个箱体结构分为：膛体组件、箱架组件和热风组件三个部分，膛体腔，内表面全镜面设计，风道由左、右、后导风板与箱体内壁组合而成，膛体顶部有排风管道。无尘无氧化烤箱的技术参数：1.zui高温度：450...

    2021-11-20

  • 使用防潮箱时一定要注意的那些事情你知道吗
    防潮箱是指运用各种除湿技术有效地降低柜内湿度，从而达到防潮、防霉、防氧化、防锈、防微量吸湿等目的。在能确保气密的空间内，运用可以把特定容量空间内原有湿气有效降低的除湿、排湿技术，从而达到防潮、防霉、防氧化、防锈、防劣化、防质变等需求功能，这...

    2021-10-22

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